Halbleiterfertigung
Primary market for single wafer processing, lithography support, coating, cleaning, HMDS, hotplate and wet process modules.

Hochpräzise Systeme für Coating, Cleaning, Hotplate, HMDS, Nassätzen und vollautomatisierte Einzelwaferprozesse.
Prozesslösungen von Reinigung, Coating und HMDS-Systemen bis zu OPTIwet-Nass- und Ätzprozessen sowie vollautomatischen Cluster-Plattformen.

Spray-Coating-Systeme für kontrollierte Beschichtungsprozesse auf Wafern und Substraten.

Automatisierte Cluster-Systeme, die mehrere Prozessmodule in einer Plattform verbinden.

Präzise Spin-Coating-Systeme für gleichmäßige und reproduzierbare Beschichtungsergebnisse.

Hotplates und HMDS-Systeme für kontrollierte thermische Waferprozesse.

Flexible Spin-Coating- und Reinigungssysteme für die Einzelwaferbearbeitung.

Spin-Wet-Prozesssysteme für Reinigung, Entwicklung, Ätzen und Nassprozesse.

Unsere Anlagen sind auf reproduzierbare Ergebnisse, robuste Automatisierung und Service ausgelegt, der die Anlagenverfügbarkeit im Fokus behält.
Märkte und Anwendungen
Primary market for single wafer processing, lithography support, coating, cleaning, HMDS, hotplate and wet process modules.
Process platforms for small-batch and production environments with demanding substrate handling requirements.
Wet processing, coating and thermal process solutions for Si, SiC, GaN, GaAs and related substrates.
Cluster and standalone systems for larger substrates, EWLB, panel-related processes and precision coating tasks.
Flexible process equipment for specialty substrates, R&D and technology development.
Selected coating, cleaning and surface treatment applications where controlled substrate processes are required.
Offizieller Service für führende Marken

Kontaktieren Sie unser Vertriebsteam für eine individuelle Beratung zu Anlagen, Prozessmodulen, Upgrades und Service.